ウェーハ洗浄装置市場調査―装置タイプ別 (枚葉式スプレー システム、枚葉式極低温システム、バッチ浸漬洗浄システム、バッチ式スプレー洗浄システム、スクラバー)、ウェハ サイズ別 (150 mm、200 mm、300 mm 未満)、アプリケーション別 、および地域別ー予測2024-2036年

ウェーハ洗浄装置 市場分析

市場の定義

マイクロ電子デバイスの作成中に、ウェーハ表面から不純物を除去するためにウェーハ洗浄機械が使用されます。エッチング、蒸着、フォトリソグラフィーなどのさまざまな処理プロセスの前に、半導体ウェーハは装置を使用して洗浄されます。

ウェーハ洗浄装置市場の成長要因

以下は、ウェーハ洗浄装置市場の主な成長要因の一部です。

• AIベースのサーバーからのメモリデバイスの需要の増大– 人工知能 (AI) は、近年さまざまな用途でますます人気が高まっています。生成 AI 市場の成長を促進する主な要因の 1 つは、生成 AI 市場が着実に拡大していることです。これは、ChatGPT のような AI ベースのチャットボットの人気の高まりに起因すると考えられます。メモリおよびストレージ デバイスの需要は、これらの AI ベースのチャットボットの人気の高まりによって促進され、そのようなデバイスの平均販売価格 (ASP) 傾向が上昇すると予想されます。チャットボットにより、企業は 2023 年に平均 30 億時間の労働時間を節約できると推定されています。
• より小型でより効率的な電子機器に対する需要の増大– よりポータブルで高性能な電子製品に対するニーズが高まっています。デバイスが優れた性能と耐久性を実現するには、清浄で欠陥のないウェーハが必要です。最先端の洗浄技術、最先端の素材、自動化ソリューションの開発など、継続的な技術進歩です。

最新の開発

• 2020 年 8 月に: ACM Research, Inc. は、Smart Megasonix Wafer Cleaning Too (Ultra C SAPS II) を世界有数の半導体装置メーカーに納入したと発表しました。
• 2022年12月に：SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd.は、1時間あたり最大1200枚のウェーハを処理できる枚葉式ウェーハ洗浄システム「SU-3400」を発売したと発表しました。

課題

ウェーハ洗浄装置市場の成長を妨げる主な要因の 1 つは、ウェーハ洗浄時の有害化学物質の放出による環境への懸念です。アンチモン (Sb)、三酸化アンチモン (SbO3)、五フッ化ヒ素 (AsF5)、ヒ素 (As)、三塩化ホウ素 (BCl3)、ホウ素などの一部の有害物質および酸は、ウェーハの製造および洗浄に使用されており、硫化水素 (H2S)、過酸化水素 (H2O2)、三フッ化物 (BF3)、塩素 (Cl)、および酸化炭素です。これらの物質はすべて有害で危険であり、環境や人間の健康に悪影響を及ぼします。したがって、それらは制御された環境で使用する必要があります。

競争力ランドスケープ

世界のウェーハ洗浄装置市場中に主なプレーヤーには、Lam Research Corporation、Applied Materials, Inc.、Akrion Technologies、Modutek Corporation、ULTRON SYSTEMS, INC.、などが含まれます。さらに、日本市場のトップ 5 プレーヤーは、SCREEN Holdings Co., Ltd.、 Tokyo Electron Limited、Shibaura Mechatronics Corporation、TDC SOFT Inc.、 Orbray Co., Ltd.、 などです。この調査には、世界のウェーハ洗浄装置市場におけるこれらの主要なプレーヤーの詳細な競争分析、企業概要、最近の傾向、および主要な市場戦略が含まれています。